อุปกรณ์การผลิตมวลชนครั้งแรกสำหรับการทำความสะอาดกรดไฮโดรฟลูออริกในประเทศจีนนั้นประสบความสำเร็จในการย้ายเข้าไปในโรงงานพาเนล

การทำความสะอาดกรดไฮโดรฟลูออริกเป็นลิงค์สำคัญในกระบวนการแสดงผล เอฟเฟกต์การทำความสะอาดส่งผลโดยตรงต่อประสิทธิภาพขั้นสุดท้ายประสิทธิภาพและความเสถียรของโครงสร้างอุปกรณ์และเกี่ยวข้องกับอัตราผลตอบแทนของผลิตภัณฑ์ขั้นสุดท้าย การทำความสะอาดกรดไฮโดรฟลูออริกไม่เพียง แต่กำจัดสิ่งสกปรกบนพื้นผิวของชั้นที่ใช้งานอยู่ ข้อกำหนดสำหรับความสะอาดของพื้นผิวนั้นเข้มงวดมากและในทางทฤษฎีไม่อนุญาตให้มีอนุภาคใด ๆ ไอออนโลหะหรือกาวอินทรีย์ ที่แนบมาไอน้ำและชั้นออกไซด์ต้องการความเรียบระดับอะตอมบนพื้นผิวเพื่อให้แน่ใจว่ากระบวนการความน่าเชื่อถือของกระบวนการหลังการประมวลผล