อุปกรณ์การผลิตจำนวนมากเครื่องแรกสำหรับการทำความสะอาดกรดไฮโดรฟลูออริกในประเทศจีนได้ย้ายเข้าสู่โรงงานแผงสำเร็จแล้ว

การทำความสะอาดกรดไฮโดรฟลูออริกเป็นส่วนสำคัญในกระบวนการแสดงผล ผลการทำความสะอาดส่งผลโดยตรงต่อประสิทธิภาพขั้นสุดท้าย ประสิทธิภาพ และความเสถียรของโครงสร้างอุปกรณ์ และเกี่ยวข้องกับอัตราผลตอบแทนของผลิตภัณฑ์ขั้นสุดท้าย การทำความสะอาดกรดไฮโดรฟลูออริกไม่เพียงแต่ขจัดสิ่งเจือปนบนพื้นผิวของชั้นที่ใช้งานอยู่เท่านั้น แต่ยังทำให้พื้นผิวไม่สะอาดอีกด้วย จึงช่วยลดความสามารถในการดูดซับของสิ่งเจือปนส่วนต่อประสาน ข้อกำหนดด้านความสะอาดพื้นผิวนั้นเข้มงวดมากและในทางทฤษฎีไม่อนุญาตให้มีอนุภาค ไอออนของโลหะ หรือกาวอินทรีย์ใดๆ ชั้นไอน้ำและออกไซด์ที่ติดอยู่นั้นต้องการความเรียบระดับอะตอมบนพื้นผิวเพื่อให้มั่นใจในความน่าเชื่อถือของกระบวนการของกระบวนการหลังการประมวลผล